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無氰電鍍銅

無氰鍍銅液的鍍層均勻、致密、柔軟、光亮,與基體有良好的結(jié)合力,強(qiáng)深鍍和高覆蓋能力,走位好于氰化鍍銅工藝,無金屬置換反應(yīng)。

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性能特點

【材料名稱及牌號】

無氰電鍍銅

【性能特點】

鍍層質(zhì)量:鍍層均勻、致密、柔軟、光亮,與基體有良好的結(jié)合力;超強(qiáng)深鍍和高覆蓋能力,走位優(yōu)于氰化鍍銅工藝。

電性能:可抵受高溫?zé)崽幚矶浑x層,廢品率低;有良好電磁遮敞效應(yīng)。

設(shè)備兼容性:現(xiàn)有氰化鍍銅設(shè)備可清洗干凈后直接配制本工藝使用,無需設(shè)備的再投入。

維護(hù)管理:鍍液維護(hù)管理方法為常規(guī)的滴定分析及赫氏槽打片;鍍液穩(wěn)定性及鍍層質(zhì)量均優(yōu)于焦磷酸銅電鍍工藝。

 

使用方式
  • 電流密度為 1.0A/dm2時,沉積速度一般為 0.2μm/min。
  • 復(fù)雜零件可用上限電流密度沖擊 10s~30s,零件應(yīng)帶電入槽,電鍍銅過程中施加陰極移動,3cm/s 的陰極移動速度為宜。
  • 電鍍銅后的零件,在流動冷水中清洗。
  • 陽極板應(yīng)套好耐堿性陽極保護(hù)套,且不應(yīng)使用含蛋白質(zhì)成分的絲織品。不用時及時將陽極從鍍槽中取出,經(jīng)清洗、干燥后妥善安置。當(dāng)銅陽極面積不易估算時,應(yīng)酌情更換銅陽極。
參數(shù)列表
無氰電鍍銅工藝工藝參數(shù):
項目
控制范圍
配制濃度
堿式碳酸銅[Cu?(OH)?CO?],g/L
8~16
14
碳酸鉀(K2CO3),g/L
30~60
45
開缸劑 CFT-2,mL/L
30~40
35
整平劑 CFT-3,mL/L
12~20
15
光亮劑 CFT-1,ml/L
5~20
10
溫度,℃
50~65
pH
9~10
電流密度,A/dm2
0.8~1.5
陽極材料
壓延純銅板
陰陽極面積比
1:2~1:3

 

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